マイクロン　広島工場に新クリーンルーム着工、AI向け先進メモリ増産へ

半導体メモリ大手の米Micron Technology社は2026年7月4日、広島工場（広島県東広島市）で新たなクリーンルームの着工を発表した。拡大する人工知能（AI）向けメモリの需要に対応するもので、日本における製造能力を強化する。施設は段階的に建設していき、第一期工事の面積は約2万8000平方メートル。製造装置の搬入開始は2028年後半を予定する。

同施設はフジタ（東京都渋谷区）が総合建設パートナーを務める。今回のプロジェクトは、経済産業省が2025年9月12日に発表した、広島における先進メモリの研究開発・製造に向けた最大5360億円の助成金の支援を受けて進められる。Micron社が2013年にエルピーダメモリを買収して以来、広島拠点における最大規模のクリーンルーム増設となる。

クリーンルームの起工式には、Micron社のサンジェイ・メロートラ社長兼CEOらのほか、赤澤亮正経済産業大臣、岸田文雄元内閣総理大臣、広島県の横田美香知事、東広島市の髙垣廣德市長らが出席した。

広島拠点はこれまで、1ベータ（1β）DRAMの生産や、1ガンマ（1γ）DRAMでの極端紫外線（EUV）露光技術の導入など、主要なDRAM技術の移行を実現してきた。米国やグローバルの研究開発チームと連携し、次世代AI向けの先進的なDRAMやHBMの開発の一翼を担っている。Micron社によると、今回のプロジェクトは国内調達や地域購買を促進し、地域サプライヤーの商機を広げるとともに、周辺のサプライチェーンやサービスエコシステム全体での雇用創出にも貢献するという。将来的には、1000名以上の雇用を含む労働力の拡大への貢献を見込む。